특허·실용신안 분야에서 1위를 차지한 ‘정품 인증용 라벨 및 정품인증 시스템’은 반사 성질이 다른 두 종류의 반사입자를 랜덤 배치하여 복제가 원천적으로 불가능하도록 한 광학 PUF 정품 인증용 라벨과 이를 활용한 정품 인증 시스템에 관한 원천기술 발명이다.
특히 이번 수상은 평균 38.6대 1의 높은 경쟁률 속에서 거둔 값진 성과로 심사위원들은 종전 전자태그(RFID) 또는 NFC, 홀로그램 등의 인증에 비해 복제 가능성과 제작비를 크게 낮춘 반면, 사용자가 스마트폰 등으로 손쉽게 정품 인증을 확인할 수 있도록 하여 향후 브랜드 보호 시장의 중심이 될 것으로 내다봤다.
원광대 LINC사업단장 송문규 교수(전자융합공학과)는 “원광대 LINC사업단이 지원하는 가족회사와 함께 개발하고 있는 이번 기술이 올해 최고의 특허 기술로 선정돼 매우 기쁘고 보람을 느낀다”고 말했다.
한편 특허청과 중앙일보는 1992년부터 발명자와 창작자의 사기를 진작시키고 범국민적인 발명분위기의 확산을 위해 특허청에 등록된 우수 발명·디자인을 발굴해 매년 특허기술상을 시상하고 있으며, 수상자에게 특허기술상 수상마크 제공 등을 통해 사업화 마케팅을 지원해오고 있다.